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天津eb电子束板材供应商

作者:197mgr 时间:2024-04-26 00:13:21

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这些可以包括几乎任何传统的有机(ê。克,脂肪羧酸和烷基胺)或无机(S 2-,氯化镉3 - ,锡2小号6 4-,等)的配体,这在提供的NC胶体稳定性,并且对光不敏感。

功能性无机纳米材料(DOLFIN)的直接光学光刻是一种用于无机纳米晶体(NCs)高分辨率图案化的无光刻胶方法,深紫外(DUV,254 nm)光子的使用已经得到证明。近日,美国芝加哥大学化学系研究小组设计一系列光化学活性NC表面配体来扩展DOLFIN的多功能性,这些配体用于使用包括DUV,近紫外(i-line,365 nm),蓝色(h-line,405 nm),和可见光(450 nm)。她们证明DOLFIN的暴露剂量可以约为30 mJ / cm 2与大多数商业光敏抗蚀剂相比,它很小。图案化的纳米材料可以用作高度耐用的光学衍射光栅。

在这项研究集中于两个宽泛的族:金属硫属化物(MCC)配体和通过用配体剥离剂去除有机配体而制备的所谓“裸” NC。(71-73) MCC配体,例如Sn 2 S 6 4–充当带负电荷的离子,牢固地结合到NC表面,而阳离子在NC周围形成弥漫的云,产生负的ζ电位。相反,诸如NOBF 4之类的剥离剂会通过去除原始的长链有机配体并产生带正电的NC表面而产生“裸露”的NC(图S1)。“裸露”的表面含有过量的金属表面位点的弱静电坐标BF 4 -阴离子和DMF溶剂分子提供在极性介质中的NC的胶体稳定性。

与稳定的配体相反,光敏物质被设计为在初添加到溶液中时与NC表面的相互作用小。我们发现这些添加剂随后以两种方式影响NC的溶解度。首先,添加剂可以用作流延膜中NC之间的物理隔离物。如果添加剂的分子大小足够大,则可以防止NC彼此之间太近而落入不可逆的范德华势阱中(图2)。)。其次,光敏添加剂在辐射下分解,从而改变了NC周围的局部环境,例如局部pH值和离子强度。这些变化极大地影响了NC的溶解速度,从而可以形成图案。在这项工作中,我们研究了两种类型的添加剂,离子型和非离子型光酸产生剂(PAG)。

两组分系统包含两种类型的功能分子的NC墨水:稳定配体和光敏添加剂。使用这种方法可以获得在单个配体中不容易获得的各种特殊功能。例如,光敏添加剂允许用非光敏无机配体封端的NC用365或405 nm的光进行图案化。这些可以包括几乎任何传统的有机(ê。克,脂肪羧酸和烷基胺)或无机(S 2-,氯化镉3 - ,锡2小号6 4-,等)的配体,这在提供的NC胶体稳定性,并且对光不敏感。在这项研究集中于两个宽泛的族:金属硫属化物(MCC)配体和通过用配体剥离剂去除有机配体而制备的所谓“裸” NC。(71-73) MCC配体,例如Sn 2 S 6 4–充当带负电荷的离子,牢固地结合到NC表面,而阳离子在NC周围形成弥漫的云,产生负的ζ电位。